消息称三星电子3nm与2nm良率分别超60%和40%
正与外部客户展开性能评估
2025-05-14
来源:IT之家
5 月 13 日消息,韩媒《朝鲜日报》当地时间今日报道称,三星电子基于GAA晶体管结构的3nm和2nm节点良率分别超过了 60% 和 40%,在工艺良率有起色的背景下三星正努力争夺先进制程订单。
三星电子虽然在业界率先导入了 GAA 技术,但其两大 GAA 节点 3nm 和 2nm 持续面临性能和良率两方面的问题,鲜有外部客户下单。如果 3nm 的良率确实已在测试芯片中达到了 60%,那对三星而言无疑是个重大利好,显示该制程距离大规模量产更近了一步。
对于 2nm 制程,韩媒报道援引行业消息称,三星晶圆代工预计将很快进入英伟达 GPU 和高通移动端 AP(IT之家注:应用处理器)项目对 2nm 工艺性能评估的最后阶段。
此前有消息传出,明年下半年的三星 Galaxy Z Fold8 / Filp8 折叠屏手机有望搭载三星自家以 2nm 制程代工的高通骁龙 8 Elite Gen 2 处理器。
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